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光刻机/紫外曝光机
 
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技术特点

H94-27型紫外光刻机找平机构先进,找平力小、不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片、宝石片的曝光,而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟以及非圆形基片和小型基片的曝光。

系统参数

1. 曝光类型:单面

2. 曝光面积:≥Φ165mm

3. 曝光模式:一次或套刻曝光

4. 曝光方式:密着曝光

5. 掩膜板尺寸:5"×5"6"×6"7"×7"                              

产品应用

紫外光刻机主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。

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