实验室常用衬底耗材>氮化硅片 Si3N4
 
氮化硅片 Si3N4
 
货号: 100985 规格: 见包装 价格: 询价
CAS号: 12033-89-5
编号: MK1344
包装: 标准包装
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   在微电子和光电子材料及器件的研究和生产领域,氮化硅已然成为一种重要的薄膜材料。随着超大规模集成电路的发展,集成度、复杂性和封装要求的不断提高,氮化硅作为钝化膜、绝缘层、扩散掩膜应用越来越广泛。研究发现,硅中的氮能够提高硅单晶的强度,防止硅片翘曲,并能抑制微缺陷形成。

样品名称尺寸氮化层厚度成膜方式硅厚度硅片电阻率
氮化硅片4英寸(100mm)100nm 200nm 300nm其他可定制LPCVD375μm/500μm<0.05 Ω·cm

氮化硅衬底照片:




 LPCVD制备 Si3N4不同厚度颜色不同:



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